美國SVT公司ALD原子層沉積系統(tǒng)

自1990年來薄膜淀積設(shè)備制造商。
擁有獨立的室內(nèi)實驗室用于材料研究和工藝開發(fā)。
提供廣泛的服務，包括淀積設(shè)備、淀積部件、集成傳感器以及工藝控制
設(shè)備制造和工藝技術(shù)的高度結(jié)合，為客戶提供可靠的技術(shù)服務
實驗室7臺應用淀積設(shè)備生長出的材料
多條設(shè)備生產(chǎn)線幾乎覆蓋了整個薄膜淀積設(shè)備市場
在薄膜淀積領(lǐng)域擁有超過120臺設(shè)備的供應商。

NorthStar ALD系統(tǒng)介紹

NorthStar ALD原子層沉積系統(tǒng)提供各種淀積方法，包括熱淀積以及能量增強淀積。
每臺設(shè)備可以提供多達8個源管路以及一個熱壁淀積腔，使其應用范圍極為廣泛。
設(shè)備的快速艙口蓋或裝載室（可選件）使樣品操作快捷方便。
NorthStar ALD系統(tǒng)不但能跟其他設(shè)備連接起來，還能連接多種測量儀器。
原位測量工具以及RoboALD軟件自動化系統(tǒng)提高了工藝的再現(xiàn)性。
可以直接升級至超高真空
提供工藝演示以及工藝培訓服務
為潛在客戶提供免費樣品測試。

應用領(lǐng)域

High-K電介質(zhì)
納米涂層
MEMS
光子晶體
擴散阻擋層
器件封裝
表面改性層

技術(shù)參數(shù)

為科研客戶量身打造優(yōu)質(zhì)的原子層沉積系統(tǒng)。
提供4"、6"、8"、12"等多種尺寸的樣品平臺。
針對客戶的需求，提供多種輸氣設(shè)計。
---可控真空度: 1 Torr to UHV
---氣道加熱
---氣體快速進出
---樣品尺寸: 4in standard, optional 12in
---基底加熱: up to 300 ℃, optional higher temp

主要特點

安全的設(shè)計，多樣化的配置，測試手段。
精確的控制手段打造*的成膜質(zhì)量。強大的科研團隊鑄就雄厚的科技實力。
---氣體離子化
---臭氧輸送裝置
---石英振蕩器
---四重質(zhì)量分光計
---實時溫度顯示
---橢偏儀
---進樣室